一、酷斯特科技真空甩帶爐 配置噴鑄熔煉功能設(shè)備用途:

KSDG-0.05真空熔煉甩帶一體爐是用來制備和開發(fā)亞穩(wěn)材料(如非晶態(tài)材料)的專用設(shè)備，該設(shè)備除了具有感應爐的全部特點外，還具有制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作,，廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學的開發(fā)與研究。

二、酷斯特科技真空甩帶爐 配置噴鑄熔煉功能設(shè)備配置：

  設(shè)備有高真空腔室，高真空系統(tǒng)，甩帶收集裝置，穩(wěn)壓儲氣裝置，伺服甩帶裝置，坩堝升降裝置，感應加熱裝置，水冷裝置等組成.

三、主要技術(shù)參數(shù)

3.1.供電電源：三相五線 AC380V 50HZ 15KW

3.2.甩帶樣品最大熔煉量：10-50g;

3.3.輥輪尺寸：  φ200mmx40mm  φ240mmx40mm(可根據(jù)需要定制）

3.4.單棍旋轉(zhuǎn)裝置（甩帶）：銅棍速度：1-3000r/min;

3.5 甩帶升降：甩帶升降采用伺服電動升降，可精密調(diào)節(jié)坩堝與銅輥的精確位置。

3.6噴鑄容量：10-50g

3.7 噴鑄升降：噴鑄升降采用氣缸電動升降，可手動精密調(diào)節(jié)坩堝與銅模之間的精確位置。

3.8 感應熔煉最大容量：20-200g

3.9.真空度：6.7x10-4Pa;（直聯(lián)泵+分子泵+擋板閥+復合真空機）

3.10.甩帶熔煉電源功率：15KVA 30-80KHz 380V

3.11.熔煉溫度：500℃-1700℃，配紅外測溫

3.12.熔煉坩堝：石英、BN 根據(jù)需要配置不同材質(zhì)

3.13.條帶寬度：1-10mm 寬，厚度 ≥20μm